大国重器对我国发展有何意义？
作为一个国家的经济发展，需要很多的人力和物种，要快速发展，必须得有科学技术的支撑，因此，就要有大量的科技人才保证，所以，国家首要任务抓好教育培养人才才能保证科技发展领先。中国是世界第一人口大国，大国重器对我国发展有重要的意义，无论是搞基建还是航空航天领域的快速发展，都需要大国重器作为重要的后盾支撑保障才行。
国之重器，一般是指对于国家某些方面有重大意义事和物;装备制造业是国家综合实力和技术水平的集中体现。是各行业产业升级、技术进步的重要保障，中国作为全球最大装备制造业国家，要挺起大国脊梁，铸大国重器。是中国复兴梦、中国梦的支点。
《大国重器》第二季我国7NM芯片已经做出来了，这个距离上市还有多远？
大国重器里说的是蚀刻机已经达到了7nm制程，并不是已经能够生产7nm的芯片。
《大国重器》里面提到的是蚀刻机（或者又叫刻蚀机），这种装置的制程中国已经量产了7nm制程级别的，而且已经被台积电采购、用于生产，所以那些喊着吹牛的人就可以去歇着了。同时，5nm制程的蚀刻机也在研发之中，听说进展相当顺利。
↑大国重器中的中国蚀刻机（片中用的是刻蚀机）↑
制造芯片还需要光刻机。
但是，芯片的制造远远不是只有一个蚀刻机就行的，因为芯片还有一个更为关键的过程：光刻，因此需要使用叫做“光刻机”的装置。
↑光刻机的原理图↑
简单来说，光刻过程就是要把金属表面的光刻胶侵蚀成我们需要的形状，而光刻胶被侵蚀之后就要对金属表面进行蚀刻，用化学物质或者等离子体把没有覆盖光刻胶的那部分给侵蚀掉，最后的结果当然是留下了我们需要的电路形状。
下面这张图上半部分就是光刻，下半部分就是蚀刻，分别要用光刻机和蚀刻机。这两种设备在芯片制造过程中缺一不可。
↑大规模集成电路的制造过程↑
具体的介绍可以看我写的另一个介绍：《生产芯片用的蚀刻机和光刻机有什么区别？》地址是：
我们在光刻机的相关技术上非常落后。
光刻机的难度要远远高于蚀刻机，这种装置中国距离世界顶尖水平还有很远，最先进的光刻机是荷兰ASML公司生产的，已经可以光刻7nm以下制程的芯片了。但是中国可以自主生产的光刻机只有90nm的制程，可以说差的很远。
↑ASML公司的先进光刻机↑
所以现在的中国两条腿中瘸了一条，虽然在蚀刻机上达到世界领先水平，但是自主生产的光刻机还差距很远，尚还不能完全自主生产高端芯片，还有很长的路要走。
一般来讲，制造一块集成电路芯片需要上百道工序，可以概括为前道工艺和后道工艺。前道工艺以单晶硅片的加工为起点。以在单晶硅片上制成各种集成电路元件为终点；后道工艺即封装测试环节，以最终制成集成电路产品为终点。在前道和后道工艺中，需要用到大量的制造加工设备，这些设备的制造需要综合 运用光学、物理、化学等科学技术，具有科技含量高，制造难度大，设备价值高等特点。根据工艺流程，集成电路制造环节所需要的设备其中就包括了光刻机和刻蚀机。“光刻”意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。根据光刻机的用途可分为前道光刻机和后道光刻机(即封装光刻机)。我们日常使用手机的CPU制造工艺都离不开光刻机。通常提到的光刻机大多指用于制造芯片的前道光刻机。蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液,经由化学反应以达到蚀刻的目的,化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。刻蚀相对光刻要容易，制作芯片时，光刻机是激光将掩膜版上的电路临时复制到硅晶圆片上，刻蚀机是按光刻机在硅片上刻好的电路结构，在硅片上进行微观雕刻，以刻出沟槽或者接触空。
央视《大国重器》第二季中提到的是中微半导体7nm刻蚀机，这里7NM不是芯片而是设备工艺，是指制作芯片所需的蚀刻机工艺达到了7NM。中微半导体研发的7nm刻蚀机已经投入市场，目前台积电等芯片制造厂商都在使用。事实上我国目前蚀刻机的工艺已经达到世界先进水平。今年底中微或将量产目前世界最先进的5nm等离子刻蚀机。但要制作国产高端芯片还需要国产高端光刻机。相比刻蚀机,国内光刻机工艺则远远落后于世界先进水平。在已量产的国产光刻机中性能最好的是90nm光刻机，不客气地说这属于低端光刻机。至于国内晶圆厂所需的高端光刻机则完全依赖进口。国产高端芯片什么时候能上市就得看国产高端光刻机的研发速度啦。
